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SKハイニックス、321層NANDベースのUFS 4.1ソリューションを開発

NSP NEWS AGENCY, By Seulgi Kim and Bok-hyun Lee, 2025-05-22 22:42 JPX7
#SK hynix(000660) #321層NANDベース #UFS 4.1 #モバイル向けソリューション #オンデバイスAI需要増加

世界最高水準のシーケンシャルリード性能と低消費電力を両立し、オンデバイスAIに最適化…厚さも15%薄型化し、超薄型フラッグシップスマホに対応

NSP통신-(写真=SKハイニックス)
(写真=SKハイニックス)

(Seoul=NSP NEWS) = SKハイニックス(000660)は、世界最高層である321層1Tb(テラビット)TLC(トリプルレベルセル)4D NANDフラッシュを適用したモバイル向けソリューション「UFS 4.1」を開発したと発表した。

オンデバイスAIの需要が高まる中、端末の演算性能とバッテリー効率のバランスが重要になっており、薄型・低消費電力は業界の標準となりつつある。これに対応し、同社は今回の製品で電力効率を従来の238層製品に比べて7%向上させた。

また、製品の厚さも従来の1mmから0.85mmへと薄型化し、超薄型フラッグシップスマートフォンへの搭載が可能となった。

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さらに、データ転送速度は最大4300MB/sのシーケンシャルリード性能を実現。マルチタスク処理に影響を与えるランダムリードおよびライト性能も、それぞれ前世代比15%、40%向上し、現行のUFS 4.1製品の中で最高水準の性能を記録した。

これにより、オンデバイスAIの実装に必要なデータを遅延なく供給でき、アプリ起動やレスポンス速度の向上を通じてユーザー体感性能の強化に貢献するとしている。

新製品は512GBと1TBの2モデルで構成されており、年内に顧客向け提供と認証を進め、2026年第1四半期から本格的な量産に入る計画だ。

SKハイニックスのアン・ヒョン開発総括社長(CDO=最高開発責任者)は「今回の製品を皮切りに、321層4D NANDを活用したコンシューマー用およびデータセンター向けSSDも年内に開発を完了する」と述べ、「NAND分野でもAI競争力を備えた製品ポートフォリオを構築し、フルスタックAIメモリープロバイダーとしての地位を確立していく」と語った。

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